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化学气相沉积设备

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热丝CVD

2017-02-16 点击量：

1. 在超高温度下采用CVD方式沉积类金刚石薄膜
2. 与美国西南研究院共同研制开发，采用等离子体增强技术，提高膜层质量
3. 配有离子源，实现镀膜预处理与镀膜辅助沉积

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热丝CVD

1. 在超高温度下采用CVD方式沉积类金刚石薄膜 2. 与美国西南研究院共同研制开发，采用等离子体增强技术，提高膜层质量 3. 配有离子源，实现镀膜预处理与镀膜辅助沉积

1. 在超高温度下采用CVD方式沉积类金刚石薄膜
2. 与美国西南研究院共同研制开发，采用等离子体增强技术，提高膜层质量
3. 配有离子源，实现镀膜预处理与镀膜辅助沉积