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脉冲激光沉积设备

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PLD450E球型脉冲激光沉积与磁控溅射复合镀膜系统

2017-03-06 点击量：

1. 激光转靶配有多块靶材，靶台可实现公自转，配有磁控靶多套
2. 样品架衬底可加热，可自转
3. 样品预处理室有退火炉，样品库有多个储存位置

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PLD450E球型脉冲激光沉积与磁控溅射复合镀膜系统

1. 激光转靶配有多块靶材，靶台可实现公自转，配有磁控靶多套 2. 样品架衬底可加热，可自转 3. 样品预处理室有退火炉，样品库有多个储存位置

1. 激光转靶配有多块靶材，靶台可实现公自转，配有磁控靶多套
2. 样品架衬底可加热，可自转
3. 样品预处理室有退火炉，样品库有多个储存位置